מערכת RO כפולה מים תהליך

מתקני טיפול במים תעשייתיים מסתמכים על מערכת Process Water Double Pass Reverse Osmosis כדי להשיג טוהר תת--מיקרוסימן, תכולת סיליקה נמוכה, ומעקב אחר רמות הפחמן האורגני הכוללות באמצעות הפרדת ממברנות דו-שלבית-. על ידי העברת מי הזנה גולמיים דרך לולאת לחץ ראשונית-ת ומערך ליטוש מונע-בוסטר, תצורה זו מנטרלת תנודות מים עונתיות ומבטיחה תפוקה יציבה וטוהר- גבוהה עבור סביבות ייצור תובעניות.

הפרדה ראשונית:מי הזנה בלחץ נכנסים למערך הממברנות הראשון, דוחים מינרלים מומסים לזרם רכז תוך לכידת חלל ראשוני.

התאמת pH ביניים:חלל זורם לתוך מיכל הפסקה שבו מינון נתרן הידרוקסיד, הופך פחמן דו חמצני מומס לביקרבונט יוני להסרה-שנייה.

כרטיס פוליש:משאבת מאיץ צנטריפוגלית רב-שלבית אנכית מזינה את המים המותאמים דרך ממברנות משניות, ומבטלת שאריות יונים.

ניהול דחייה:זרמים מרוכזים משני המעברים משתמשים בשסתומי לחץ-לשמירה על שיווי משקל הידראולי על פני המערך.
 

יחידות שאיבה:משאבות צנטריפוגליות רב-שלביות אנכיות הכוללות קצוות רטובים מנירוסטה 316L ומנועי IE3 ביעילות גבוהה-.

רכיבי ממברנה:אלמנטים מרוכבים מפוליאמיד-תעשייתיים דקים-תעשייתיים הממוקמים בכלי FRP ללא תפרים בדירוג 3.0 MPa.

רשת צנרת:פלדת אל חלד מרותכת SS304 או SS316L בדרגה תברואתית- לקווי חלחול; תזמן 80 PVC או CPVC עבור מעגלי הזנה בלחץ גבוה-.

בקרת אוטומציה:בקר לוגי ניתן לתכנות משולב עם HMI מסך מגע צבעוני בגודל 10-אינץ' למעקב אחר פרמטרים בזמן אמת.

עכירות ו-SDI:מדד צפיפות הסחף נמוך מ-3.0; עכירות נמוכה מ-1.0 NTU באמצעות סינון-קדם.

מוצקים מרחפים:אפס מוצקים מרחפים הניתנים למדידה למניעת התכלות פני השטח.

חמצון וכלור:כלור חופשי נשמר מתחת ל-0.1 מיליגרם לליטר באמצעות ספיחת פחמן או מינון ביסולפיט.
 

זיהומים מתכתיים:ברזל משולב ומנגן נשמר אך ורק מתחת ל-0.05 מיליגרם לליטר.

טוהר יוני:שומר על תפוקת מוליכות רציפה מתחת ל-1.0 מיקרוסימנס לסנטימטר.

בקרת סיליקה:דחיית סיליקה תגובתית העולה על 99.8 אחוזים כדי להגן על ציוד תרמי במורד הזרם.

הפחתה אורגנית:העברת פחמן אורגני נמוך מאומתת באמצעות מדי התנגדות מוטבעים.

דיכוי ביולוגי:רמות נמוכות מתמשכות של חומרים מזינים מאושרות באמצעות דגימת חיידקים שגרתית.

חסינות עונתיות:מתגבר על שינויים במים גולמיים הכוללים מוצקים מומסים שמשבשים את הביצועים של-מעבר בודד.

הגנת פוליש:מפחית עומס יוני על יחידות אלקטרודיוניזציה במורד הזרם, ומרחיב את מחזורי התחדשות השרף.

ציות לתקנות:מספק מים תת--מיקרוסימנסים הנדרשים לייצור תעשייתי-במפרט גבוה.

מי הזנת הדוד:מספק מי איפור-מינרליים ללא-מחוללי קיטור בלחץ גבוה, ומונע היווצרות אבנית וכשל בצינור.

שטיפת אלקטרוניקה:מספק מי שטיפה מטוהרים לייצור מעגלים וקווי שטיפה של רכיבים.

ניסוח כימי:מספק מי דילול-בטוהר גבוה עבור סינתזה כימית אצווה ופתרונות ניקוי.

טיפול פני השטח:מזין את מיכלי השטיפה של גימור מתכת וציפוי אלקטרו כדי למנוע כתמים מינרלים.

גודל קיבולת:חשב את קצבי הזרימה השעתיים הנדרשים תוך התחשבות בביקוש שיא, שעות פעילות ומחזורי ניקיון-ב-מקום.

ניתוח מים:הגש דוחות כימיה מלאים במעבדה המכסים את סך המוצקים המומסים, קשיות וסיליקה.

תכנון מרחבי:ודא את מידות החדר המכאניות, מרווחי התקרה ויכולות העומס הרצפה עבור מכלולים החלקים.

אימות כלי שירות:אשר את אספקת המתח, זמינות האוויר הדחוס עבור שסתומים פניאומטיים ויכולות ניקוז המפעל.

עיצוב החלקה:ניתן להגדרה כמכלול החלקה יחיד קומפקטי או מפוצל שני-מכלול החלקה עבור שטחים מכניים מוגבלים.

חומרים:צנרת 316L אלקטרו-מלאה בתהליך תהליך מפלדת אל חלד ורכיבים רטובים לדרגות סניטריות.

שחזור אנרגיה:שילוב של התקני שחזור אנרגיה איזובאריים כדי לחתוך- את צריכת החשמל של משאבת לחץ גבוה בעד 35 אחוזים.

חבילות יתירות:משאבות הזנה בלחץ גבוה-כפולות ב-100 אחוז עם לולאות מעבר אוטומטיות לפעולה רציפה.

בדיקת לחץ:בדיקה הידרוסטטית של כל סעפות ומכלי לחץ מרותכים בלחץ עבודה פי 1.5.

אימות חשמלי:בדיקות חיווט קפדניות-ל-נקודה, בדיקות לולאה וסימולציות לוגיות PLC.

קבלת מפעל:בדיקה רטובה פונקציונלית מקיפה באמצעות מים עירוניים לאימות תפוקת המשאבה ותגובת השסתום.

תיעוד:דוחות בדיקת חומרים, יומני בדיקת ריתוך, תעודות כיול ודפי נתונים של רכיבים המסופקים עם כל יחידה.

תגיות פופולריות: עיבוד מים כפול ro system, סין עיבוד מים כפול מערכות ro יצרנים, ספקים